反滲透設備脫鹽率過快下降的原因有哪些？
在脫鹽水處理設備中，采用反滲透膜進行脫鹽處理是目前先進、經(jīng)濟的技術。在反滲透設備日常運行中，經(jīng)常發(fā)現(xiàn)反滲透純水設備出現(xiàn)脫鹽率過快下降的情況，那么純水設備脫鹽率過快下降的原因有哪些？
1.高壓差導致脫鹽率下降
壓差升高同時往往伴隨著脫鹽率快速下降。在正常的流量下，壓差的上升通常是由于膜元件水流量通道的隔網(wǎng)進入雜質，污染物質和水垢引起的，導致產水流量的下降。
當超過設定的給水流量時，也會發(fā)生過大的壓差，當啟動時給水壓力提升過快，發(fā)生水錘壓差會很大，如果膜已經(jīng)被污染，特別是微生物污染，壓差也會增大。給水至濃水間的壓差表示的是水力阻力，與給水的流速、溫度有關，應該保持產水和濃水有一定的流速。出現(xiàn)高壓差的可能性有：水垢、微生物污染、阻垢劑沉淀、過濾器過濾介質漏、給水/濃水密封損壞。
2.在線化學清洗不合理
超純水設備在運行中是不可避免被污染。預處理和添加各種藥劑只能將反滲透被污染的可能性降到較低，而不能徹底的杜絕。因此，長期運行的反滲透系統(tǒng)在經(jīng)過一定時間的運行后，必須要充分論證和確認是哪一種污染物。針對聚酰胺膜的特點，可以根據(jù)相應的污垢選取適當?shù)那逑磩?/span>
a、鹽酸(36%-38%)，配制成0.12%稀溶液，去除金屬氧化物質。
b、氫氧化鈉，配制成0.1%的稀溶液，去除二氧化硅、微生物膜、有機物等，pH約為12。作用是對有機微生物粘膜的水解破壞而剝離，對于二氧化硅膠體垢，形成的硅酸鈉為可溶性，從而除垢。
c、乙二胺四乙酸四鈉，作為螯合劑廣泛應用于工業(yè)清洗，1%水溶液pH10.5-11.5，加入濃度0.5%-1%。
d、十二烷基磺酸鈉，屬陰離子表面活性劑，目的是分散在溶液中的有機化合物，可使溶液的表面張力降低，引起正吸附，這樣可使溶液表面溶質分子的的濃度大于溶液內部溶質分子的濃度。十二烷基磺酸鈉是反滲透清洗是主要的表面活性劑，加入濃度為0.025%。
e、甲醛，甲醛對細菌、真菌、病毒、芽胞及原蟲等皆有極強的殺滅力，加入濃度為0.5%-35。
3.余氯的控制差
次氯酸鈉作為sha菌劑，廣泛應用于純水設備預處理中。在反滲透系統(tǒng)中，為防止反滲透的微生物污染，對反滲透進水要進行氯化處理。用比色計測定余氯，控制余氯的品質濃度在砂過濾器進口處一般為0.5mg/L，不小于0.3mg/L，在反滲透前保安過濾器處應小于0.1mg/L。而聚酰胺類膜的突出問題是防止其被氧化。進水余氯值和強氧化值均對其造成不利的影響，必須嚴格控制。因而定期檢測反滲透進水的余氯值極為重要。
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